Новый тип литографии с разрешением ниже 3 нанометров

Нидерландская компания ASML объявила о создании первого образца полупроводника с использованием новой системы литографии High-NA EUV. Для новой системы ученые и инженеры использовали проекционную оптику с числовой апертурой 0,55, что позволило достичь беспрецедентной точности печати на уровне 10 нанометров.о

Компания уже представила свои чипы с высоким разрешением – ниже 3 нанометров и планирует начать их массовое производство в 2025–2026 годах.

https://hightech.plus/2024/04/21/asml-sozdala-pervii-..